本站音书，凭据天眼查APP数据裸露晶书册成（688249）新赢得一项发明专利授权，专利名为“掩膜图案的生成武艺、半导体封装器件及制造武艺”，专利恳求号为CN202411719272.7，授权日为2025年3月14日。
专利摘记：本恳求履行例提供了一种掩膜图案的生成武艺、半导体封装器件及制造武艺，该掩膜图案的生成武艺用于制造半导体封装器件，该半导体封装器件包括按照掩膜图案酿成于半导体基底上的再分辨层。该掩膜图案的生成武艺包括：给与驱动掩膜图案；在驱动掩膜图案中存在安静第一内角要求的瞎想内角情况下，对驱动掩膜图案中的瞎想内角进行圆弧钝化处分，以使得组成瞎想内角的两条边之间酿成圆弧过渡；其中，驱动掩膜图案进程圆弧钝化处分后酿成圆弧钝化掩膜图案；第一内角要求为内角角度不大于90°；对圆弧钝化掩膜图案进行逻辑运算处分，得到瞎想掩膜图案。通过本恳求履行例，缩短了再分辨层的绝缘层薄膜断裂或阑珊的可能性，提高了半导体封装器件的性能。
本年以来晶书册成新赢得专利授权51个，较旧年同时减少了15%。策动公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面插足了6.14亿元，同比增22.27%。
数据来源：天眼查APP
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